隨著現代科學技術的進步，工農業生產和國防醫學業事業的發展，氫的應用范圍，日益擴大，用量亦在迅速增加。
在一些電子材料的生長與襯底的制備、氧化工藝、外延工藝中以及化學氣相淀積(CVD)技術中，均要采用氫氣作為反應氣、還原氣或保護氣。半導體集成電路生產對氣體純度要求*，比如氧雜質的允許濃度為10-12等。微量雜質的“摻入”，將會改變半導體的表面特性，甚至使產品成品率降低或造成廢品。
在制造非晶體硅太陽能電池中，也需要用到純度很高的氫氣。非晶硅薄膜半導體是上近十年來研制成功的新材料，在太陽能轉換和信息技術等方面已展示出了誘人的應用前景。
光導纖維的應用和開發已經規模使用，石英玻璃纖維是光導纖維的主要類型，在光纖預制棒制造過程中，需要采用氫氧焰加熱，經數十次沉積，對氫氣純度和潔凈度都有一定要求。
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氫氣發生器制取氫氣的應用|電子工業
更新時間：2020-08-17
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